多功能等離子體鍍膜機(jī)（PVD爐）

1、電子束發(fā)生器功率的提高，幾乎可以蒸發(fā)所有物質(zhì)，(如金屬鎢、鉑等)，即使飽和蒸氣壓較低的元素(如Mo、Nb等)也能利用該工藝蒸發(fā);

2、電子束功率易于調(diào)節(jié)，束斑尺寸和位置易于控制，有利于精確控制涂層厚度;

3、坩堝采用水冷，避免了高溫下蒸鍍材料與坩堝發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，還可避免坩堝排氣污染膜層;

4、采用電子束加熱基板，可使基板溫度穩(wěn)定，易于控制，使沉積層不受加熱源的污染;

5、與其他蒸鍍方法比，蒸發(fā)速率和沉積速率高(分別可達(dá)10kg/h~15kg/h和100μm/min~150μm/min)，工藝重復(fù)性好;特別是大功率電子槍的出現(xiàn)，使制備大尺寸的板材以及多層材料成為現(xiàn)實(shí);

6、沉積過(guò)程中蒸發(fā)出的原子團(tuán)能量較低，減弱層界面擴(kuò)散、混合作用，有利于獲得具有清晰、明銳界面的多層材料;

7、選擇適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)，可得到與被蒸鍍材料的成分相同、元素含量基本一致的涂層;

8、基體與涂層之間有較高的結(jié)合力;

9、涂層的沉積是在真空狀態(tài)下進(jìn)行的，有利于防止基體與涂層材料的污染和氧化，因此可以獲得質(zhì)量較高的涂層;

10、得到的涂層的應(yīng)變?nèi)菹薷?，使涂層的抗熱沖擊性能明顯提高。

等離子噴涂熱障涂層的疲勞壽命一般僅為EB-PVD涂層的30%~40%。

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